CIF實驗室型等離子清洗機CPC-F系列

所屬分類：等離子清洗機

表面改性

等離子清洗機紫外臭氧清洗機

表面去膠

等離子去膠機

表面刻蝕

等離子刻蝕機

表面涂層

旋涂機烤膠機濺射鍍膜機閃蒸成膜儀

產(chǎn)品參數(shù)

CIF 推出的新一代科研型等離子清洗設備，合理的結構設計，優(yōu)化的腔體尺寸，使得處理樣品更大，適用范圍更廣。產(chǎn)品性能穩(wěn)定，操作簡單方便，易維護。

產(chǎn)品詳情

CIF推出的新一代科研型等離子清洗設備，合理的結構設計，優(yōu)化的腔體尺寸，使得處理樣品更大，適用范圍更廣。產(chǎn)品性能穩(wěn)定，操作簡單方便，易維護。

等離子清洗機原理

等離子體是一種中性、高能量、離子化的氣體。其中包括中性原子或分子、電子、活性基因、激發(fā)態(tài)的核素、光子等。等離子體是不同于固體、液體和氣體的物質(zhì)第四態(tài)，它由離子、電子以及未電離的中性粒子的集合組成，整體呈中性的物質(zhì)狀態(tài)。

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等離子清洗機就是在真空腔體里，通過射頻電源在壓力情況下起輝產(chǎn)生高能量的無序的等離子體，通過等離子體轟擊被清洗材料表面，改變材料表面性質(zhì)，優(yōu)化材料表面性能，從而實現(xiàn)清潔、改性等目的。

材料3.png

應用領域：

等離子清洗設備廣泛應用于材料學、微電子、半導體、新能源、線路板、LED、微流控、光電太陽能、生物醫(yī)學等領域，主要用于材料表面進行清洗、改性、刻蝕等目的。

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產(chǎn)品特點

u7寸彩色觸摸屏中英文互動操作界面，自動控制監(jiān)測工藝參數(shù)狀態(tài)，20個配方程序，工藝數(shù)據(jù)可存儲追溯。

uPLC控制整個清洗過程，手動、自動兩種工作模式。

u采用美國德威爾（Dwyer）氣體浮子流量計或質(zhì)量流量計(CPC-FM)，可輸入氧氣、氬氣、氮氣、氫氣或混合氣等氣體，氣體控制精準。

u氣體返填吹掃，HEPA高效過濾，防止二次污染。

u316不銹鋼、石英真空艙可選擇，全真空管路系統(tǒng)采用316不銹鋼材質(zhì)，耐腐蝕無污染。

u采用60度傾角操作面板設計，符合人體功能學，操作方便，界面友好。

u上控制下艙體結構設計，結構緊湊，占地空間小。

u內(nèi)凹式前面板設計，有效保護流量計和艙門不易損壞。

u處理快速高效均勻，無污染，工藝重復性好。

u樣品處理溫度低，無熱損傷和熱氧化。

u安全保護，艙門打開，自動關閉電源。